Budowa nanomateriałów Podział metod wytwarzania nanomateriałów Procesy top-down stosowane do produkcji nanomateriałów Mechaniczna synteza Reaktywne mielenie Metoda HDDR Litografia Metody dużego odkształcenia plastycznego – Severe Plastic Deformation (SPD) Przeciskanie przez kanał kątowy – Equal Chanel Angular Pressing (ECAP) Wyciskanie hydrostatyczne – Hydrostatic Extrusion (HE) Metoda skręcania pod wysokim ciśnieniem – High Pressure Torsion (HPT) Cykliczne walcowanie materiału wielowarstwowego – Accumulative Roll Bonding (ARB) Wyciskanie przez skręconą matrycę – Twist Extrusion (TE) Proces laserowego odkształcania – Laser Shot Peening (LSP) Procesy bottom-up / Metoda zol-żel Chemiczne metody otrzymywania nanocząstek Redukcja w roztworze Redukcja w mikroemulsji Metoda osadzania warstw atomowych – Atomic Layer Deposition (ALD) Metoda chemicznego osadzania powłok z fazy gazowej – Chemical Vapour Deposition (CVD) Metoda fizycznego osadzania powłok z fazy gazowej – Physical Vapour Deposition (PVD) / 81 Rozpylanie z użyciem wiązki elektronów – Electron Beam Physical Vapour Deposition (EB -PVD) Rozpylanie magnetronowe Osadzanie powłok wspomagane wiązką jonów –Ion Beam Sputter Deposition (IBSD) Osadzanie powłok laserem impulsowym – Pulsed Laser Deposition (PLD) / 92 Osadzanie powłok impulsową wiązką elektronów – Pulsed Electron Deposition (PED) Nanoelektroosadzanie Techniki wzrostu epitaksjalnego Epitaksjalny wzrost cienkich warstw z wiązek molekularnych – Molecular Beam Epitaxy (MBE) Epitaksjalny wzrost cienkich warstw z fazy gazowej – Vapour Phase Epitaxy (VPE) /114.Epitaksjalny wzrost cienkich warstw z fazy ciekłej – Liquid Phase Epitaxy (LPE) Technologie jonowe Zagrożenia dla człowieka i środowiska wynikające ze stosowania nanomateriałów